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巖征儀器電化學腐蝕反應釜又稱光化學高壓反應、二氧化碳CO2還原、二氧化碳CO2還原制甲醇CH3OH、二氧化碳CO2還原制甲烷CH4、氮氧化物NOx的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域 ，能適合少量樣品的反應的高溫高壓光化學反應器是昂貴或低產量原材料樣品測試的理想的反應裝置。適用于制藥、化工、石油、材料、環境、冶金等精細化工領域。
具體如制藥光催化，光電催化，二氧化碳超臨界反應等工藝。
電化學腐蝕反應釜優勢：
設計參數：
加熱功率 | 500~1500W (注 1) |
設計溫度 | 250℃ |
使用溫度 | 50~200℃ (用做電催化時高 80℃) |
控溫精度 | ±1℃ (無強放熱吸熱情況下) |
設計壓力 | 150bar |
爆破壓力 | 125bar |
使用壓力 | -1~100bar (注 2) |
標準材質 | 316L (注 3) |
攪拌功率 | 80W |
攪拌速度 | 150~1500r/min(注 4) |
操作系統 | 7 寸電容觸摸系統 |
注 1 | 不同容積加熱功率不同 |
注 2 | 使用負壓時應特殊說明，配裝負壓表 |
注 3 | 有哈氏合金，蒙乃爾合金，鋯材，因科鎳,鈦材等特殊材質可訂制 |
注 4 | 磁耦攪拌 150~1000r/min,標配三葉推進式槳葉 |
